上海伯東某 OEM 客戶研發生產科研用真空鍍膜和沉積設備. 經過伯東推薦真空部分采用 Pfeiffer 渦輪分子泵 HiPace 80 和高精度薄膜真空規 CMR 361 用于定制大型脈沖激光沉積 Pulsed Laser Deposition 系統. 從而實現該系統制備金屬, 半導體, 氧化物, 氮化物, 碳化物, 硼化物, 硅化物, 硫化物及氟化物等各種物質薄膜和制備一些難以合成的材料膜, 如金剛石, 立方氮化物膜等.
科研定制 PLD 系統配置:
分子泵 HiPace 80 *8
薄膜真空規 CMR 361 *3
真空規 TPR 280 *1
伯東 Pfeifer 分子泵 HiPace 80 主要參數和抽氣性能
型號
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HiPace 80
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進氣口
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DN 63 CF-F
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極限真空 hPa
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< 5X10-10
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氮氣的壓縮比
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> 1X1011
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氮氣的抽氣速度 l/s
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67
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工作電壓: V DC
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24 (± 5 %)
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氮氣的前級真空最大值 hPa
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22
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重量 kg
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3.8
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噪音 dB(A)
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≤48
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上海伯東德國 Pfeiffer 渦輪分子泵適用于
分析儀器: 電子顯微鏡, 檢漏, 小型質譜, 表面分析, 殘余氣體分析
半導體: PVD, inspection, bonding, MBE, load-locks
工業: 醫學技術, 工業檢漏, 隔離真空, 燈管制造
研發: 核研究, 等離子研究, 粒子加速器, 冷凍研究, 納米技術, 生物技術若您需要進一步的了解詳細信息或討論, 請參考以下聯絡方式：
上海伯東: 羅先生 臺灣伯東: 王女士
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